Kesan pempasifan permukaan bahan bukan organik dan organik terhadap sifat struktur dan ciri elektronik bagi noktah kuantum silikon: kajian ab-initio
Beberapa siri pengiraan ab-initio telah dijalankan bagi meneliti perubahan bentuk struktur dan ciri elektronik noktah kuantum silikon berdasarkan kesan pempasifan bahan bukan organik, hidroksil (OH) dan bahan organik, metil (CH3 ). Hasil pengoptimuman geometri menunjukkan bahawa noktah kuantum ya...
Saved in:
| Main Authors: | , |
|---|---|
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Universiti Kebangsaan Malaysia
2016
|
| Online Access: | http://journalarticle.ukm.my/9685/1/18_M.M._Anas.pdf http://journalarticle.ukm.my/9685/ http://www.ukm.my/jsm/malay_journals/jilid45bil2_2016/KandunganJilid45Bil2_2016.html |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Institution: | Universiti Kebangsaan Malaysia |
| Language: | English |
| Summary: | Beberapa siri pengiraan ab-initio telah dijalankan bagi meneliti perubahan bentuk struktur dan ciri elektronik noktah
kuantum silikon berdasarkan kesan pempasifan bahan bukan organik, hidroksil (OH) dan bahan organik, metil (CH3
).
Hasil pengoptimuman geometri menunjukkan bahawa noktah kuantum yang dipasifkan secara tepu dengan bahan organik
dan bukan organik perlu menjalani proses penstrukturan semula keadaan permukaan bagi membolehkan pempasifan
permukaan tepu dijalankan tanpa meninggalkan sebarang ikatan terjuntai. Kajian juga mendapati bahawa panjang ikatan
meningkat pada ikatan silikon-hidroksil pada permukaan noktah kuantum. Manakala, herotan diperhatikan semasa proses
pengenduran dinamik di bahagian teras noktah kuantum. Bagi pempasif metil pula, peningkatan ikatan silikon-metil
pada permukaan meningkat lebih ketara, sementara pembentukan geometri tetrahedral pada bahagian teras dikekalkan.
Hal ini menyumbang kepada kesan pengurungan elektron yang lebih jelas. Ringkasnya, kedua-dua jenis pempasif
memberikan kesan perubahan penting pada ciri elektronik dalam tiga perspektif. Pertama, terdapat pengurangan nilai
jurang tenaga apabila bahan pempasif yang digunakan mempunyai darjah kebebasan pergerakan yang sangat dinamik
menyebabkan pengherotan pada bahagian teras. Kedua, walaupun kehadiran kedua-dua pempasif mempengaruhi nilai
jurang tenaga, namun ia tetap menunjukkan sifat elektronik tenaga jurang-langsung. Ketiga, kewujudan jurang tenaga
kecil juga diperhatikan agak ketara dalam jalur tenaga bagi noktah kuantum bersaiz kecil, dengan kesan kehadirannya
boleh menyebabkan pengurangan hasil kuantum semasa proses eksiton berlaku. |
|---|