Effect Of Annealing Temperature On Cerium Oxide Thin Films Grown By DC Sputtering Method

The cerium thin films were deposited on n-type Si (100) substrate by direct current (DC) sputtering followed by post-annealing at different temperature (400ᵒC and 600ᵒC, 800ᵒC, 1000ᵒC) in an oxygen ambient. In this study, the effect of annealing temperature on the crystallized CeO2 thin films was c...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Ainita Rozati Mohd, Zabidi, Hassan, Zainuriah, Lim, Way Foong
التنسيق: Conference or Workshop Item
اللغة:English
منشور في: 2020
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://eprints.usm.my/49082/1/ABSTRACT%20BOOK%20MNRG%202020.pdf%20cut%2069.pdf
http://eprints.usm.my/49082/
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Universiti Sains Malaysia
اللغة: English