Xác định một số chỉ tiêu lượng vết trong bột Wonfram dùng cho thuốc vi sai an toàn bằng phương pháp ICP-MS

• Main Author: Hoàng, Trọng Khiêm
• Format: Theses and Dissertations
• Language: other
• Published: Đại học Quốc gia Hà Nội 2016
• Subjects: Hóa phân tích; Chỉ tiêu lượng vết; Bột vonfram; Thuốc vi sai an toàn
• Online Access: http://repository.vnu.edu.vn/handle/VNU_123/8352
• Institution: Vietnam National University, Hanoi

Giới thiệu sơ lược về kim loại Vonfram bột dùng cho chế tạo thuốc cháy chậm vi sai an toàn; Đặc điểm của các nguyên tố vi lượng trong bột W (As, Bi, Cd, Co, Cr, Cu, Fe, Mn, Pb, Sb, Mo); Các phương pháp xác định các nguyên tố vi lượng trong bột W. Tiến hành thực nghiệm và kết quả : Nghiên cứu tối ưu các thông số đo phổ ICP -MS để xác định các tạp chất kim loại trong nền mẫu W tinh khiết . Đa ́ nh gi a ́ ảnh hưởng nồng độ nền W khi xác đị nh các tạp chất ki m l oại bằng phương pháp ICP -MS. Nghiên cứu lựa chọn số khối đo phổ của từng kim loại cần phân tích , dựng đường chuẩn và đánh giá độ lặp lại của phương pháp ICP -MS khi xác định lượng vết các nguyên tố kim loại trong nền W tinh khiết . Nghiên cứu một số quy trình xử lý mẫu , đánh gi ahi ê ̣ u suâ ́ t thu hô ̀ i của các quy trì nh xử l ý mẫu và l ựa chọn một quy trì nh tối ưu nhất cho việc phân tích lượng vết các tạp chất kim loại trong nền mẫu W tinh khiết . Áp dụng quy trì nh phân tí ch tối ưu đa nghi ên cưu đươ c để phân tích hàm lượng một số kim loại đã lựa chọn nhằm đánh giá chất lượng một số mẫu bột W thực tế.