Watanabe, S., Diño, W. A., Nakanishi, H., Kasai, H., & Akinaga, H. (2005). Reactive ion etching of NiFe thin films from first-principles study: A case study. Animo Repository.
استشهاد بنمط شيكاغوWatanabe, Susumu, Wilson Agerico Diño, Hiroshi Nakanishi, Hideaki Kasai, و Hiroyuki Akinaga. Reactive Ion Etching of NiFe Thin Films From First-principles Study: A Case Study. Animo Repository, 2005.
MLA استشهادWatanabe, Susumu, et al. Reactive Ion Etching of NiFe Thin Films From First-principles Study: A Case Study. Animo Repository, 2005.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.