Antireflective GaN nanoridge texturing by metal-assisted chemical etching via a thermally dewetted Pt catalyst network for highly responsive ultraviolet photodiodes
Antireflective (AR) surface texturing is a feasible way to boost the light absorption of photosensitive materials and devices. As a plasma-free etching method, metal-assisted chemical etching (MacEtch) has been employed for fabricating GaN AR surface texturing. However, the poor etching efficiency o...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | مقال |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2023
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/165824 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|