أرسل هذا في رسالة قصيرة

أرسل هذا في رسالة قصيرة: Plasma assisted deposition of Ti-Si-N and Ti-Si-N-O diffusion barrier films

رقم:

مقدم:

كابتشا:

 _    _    _    _     _  __   _    _             
| |  | || | || | ||  | |/ // | || | ||   ____    
| |/\| || | || | ||  | ' //  | || | ||  |    \\  
|  /\  || | \\_/ ||  | . \\  | \\_/ ||  | [] ||  
|_// \_||  \____//   |_|\_\\  \____//   |  __//  
`-`   `-`   `---`    `-` --`   `---`    |_|`-`   
                                        `-`

يرجى إدخال ما تراه::