أرسل هذا في رسالة قصيرة

رقم:

مقدم:

كابتشا:

  _  _    __   __   _____      ______   _    _   
 | \| ||  \ \\/ // |  __ \\   /_   _// | || | || 
 |  ' ||   \ ` //  | |  \ ||   -| ||-  | || | || 
 | .  ||    | ||   | |__/ ||   _| ||_  | \\_/ || 
 |_|\_||    |_||   |_____//   /_____//  \____//  
 `-` -`     `-`'    -----`    `-----`    `---`

يرجى إدخال ما تراه::

أرسل هذا في رسالة قصيرة: Copper diffusion in Ti–Si–N layers formed by inductively coupled plasma implantation