أرسل هذا في رسالة قصيرة

رقم:

مقدم:

كابتشا:

 _    _    _    _     _  _     _____    _____    
| |  | || | || | ||  | \| ||  |  ___|| |  __ \\  
| |/\| || | || | ||  |  ' ||  | ||__   | |  \ || 
|  /\  || | \\_/ ||  | .  ||  | ||__   | |__/ || 
|_// \_||  \____//   |_|\_||  |_____|| |_____//  
`-`   `-`   `---`    `-` -`   `-----`   -----`

يرجى إدخال ما تراه::

أرسل هذا في رسالة قصيرة: Copper diffusion in Ti–Si–N layers formed by inductively coupled plasma implantation