أرسل هذا في رسالة قصيرة: STUDY OF PROCESS IMPACT ON K VALUE OF LOW K DIELECTRIC MATERIAL USED IN CU / LOW K DUAL DAMASCENE INTERCONNECT

  ______    ______    _____      ___      _  _   
 /_____//  /_   _//  |__  //    / _ \\   | \| || 
 `____ `    -| ||-     / //    | / \ ||  |  ' || 
 /___//     _| ||_    / //__   | \_/ ||  | .  || 
 `__ `     /_____//  /_____||   \___//   |_|\_|| 
 /_//      `-----`   `-----`    `---`    `-` -`  
 `-`