أرسل هذا في رسالة قصيرة: STUDY OF PROCESS IMPACT ON K VALUE OF LOW K DIELECTRIC MATERIAL USED IN CU / LOW K DUAL DAMASCENE INTERCONNECT

 _    _      ___    __    __   _    _    ______   
| |  | ||   / _ \\  \ \\ / // | || | || |      \\ 
| |/\| ||  | / \ ||  \ \/ //  | || | || |  --  // 
|  /\  ||  | \_/ ||   \  //   | \\_/ || |  --  \\ 
|_// \_||   \___//     \//     \____//  |______// 
`-`   `-`   `---`       `       `---`   `------`