أرسل هذا في رسالة قصيرة: STUDY OF PROCESS IMPACT ON K VALUE OF LOW K DIELECTRIC MATERIAL USED IN CU / LOW K DUAL DAMASCENE INTERCONNECT

  ______    _____   __    __    ______    _  __  
 /_____//  |  ___|| \ \\ / //  /_   _//  | |/ // 
 `____ `   | ||__    \ \/ //    -| ||-   | ' //  
 /___//    | ||__     \  //     _| ||_   | . \\  
 `__ `     |_____||    \//     /_____//  |_|\_\\ 
 /_//      `-----`      `      `-----`   `-` --` 
 `-`