Comparison of the synthesis of Ge nanocrystals in hafnium aluminum oxide and silicon oxide matrices

10.1166/jnn.2009.C206

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون:	Chew, H.G., Zheng, F., Choi, W.K., Chim, W.K., Fitzgerald, E.A., Foo, Y.L.
مؤلفون آخرون:	ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
التنسيق:	Conference or Workshop Item
منشور في:	2014
الموضوعات:	Ge out-diffusion Germanium nanocrystals Hafnium aluminum oxide
الوصول للمادة أونلاين:	http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/69654
الوسوم:	إضافة وسم لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة:	National University of Singapore

مواد مشابهة