أرسل هذا في رسالة قصيرة

رقم:

مقدم:

كابتشا:

  ______   _    _     ______    ______  __    __  
 /_____// | || | ||  /_   _//  /_   _// \ \\ / // 
 `____ `  | || | ||  `-| |,-    -| ||-   \ \/ //  
 /___//   | \\_/ ||    | ||     _| ||_    \  //   
 `__ `     \____//     |_||    /_____//    \//    
 /_//       `---`      `-`'    `-----`      `     
 `-`

يرجى إدخال ما تراه::

أرسل هذا في رسالة قصيرة: A comparative study of HfTaON/SiO2 and HfON/SiO2 gate stacks with TaN metal gate for advanced CMOS applications