أرسل هذا في رسالة قصيرة

رقم:

مقدم:

كابتشا:

   _____   __   __   ______    _    _      _____  
  / ___//  \ \\/ // |      \\ | || | ||   / ___// 
  \___ \\   \ ` //  |  --  // | || | ||   \___ \\ 
  /    //    | ||   |  --  \\ | \\_/ ||   /    // 
 /____//     |_||   |______//  \____//   /____//  
`-----`      `-`'   `------`    `---`   `-----`

يرجى إدخال ما تراه::

أرسل هذا في رسالة قصيرة: Formation of FeSi and FeSi2 films from cis-Fe(SiCl3)2(CO)4 by MOCVD -precursor versus substrate control