أرسل هذا في رسالة قصيرة

رقم:

مقدم:

كابتشا:

  _____    _    _    _____     __   __    ______  
 /  ___|| | || | || |  __ \\   \ \\/ //  /_   _// 
| // __   | || | || | |  \ ||   \ ` //     | ||   
| \\_\ || | \\_/ || | |__/ ||    | ||     _| ||   
 \____//   \____//  |_____//     |_||    /__//    
  `---`     `---`    -----`      `-`'    `--`

يرجى إدخال ما تراه::

أرسل هذا في رسالة قصيرة: Formation of FeSi and FeSi2 films from cis-Fe(SiCl3)2(CO)4 by MOCVD -precursor versus substrate control