Tuning the interfacial hole injection barrier between p-type organic materials and Co using a MoO 3 buffer layer

10.1063/1.4740455

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Wang, Y.-Z., Cao, L., Qi, D.-C., Chen, W., Wee, A.T.S., Gao, X.-Y.
مؤلفون آخرون: PHYSICS
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/95360
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore