أرسل هذا في رسالة قصيرة

رقم:

مقدم:

كابتشا:

 _    _     _____     ______     ___      _  __  
| || | ||  |  ___||  /_____//   / _ \\   | |/ // 
| || | ||  | ||__    `____ `   / //\ \\  | ' //  
| \\_/ ||  | ||__    /___//   |  ___  || | . \\  
 \____//   |_____||  `__ `    |_||  |_|| |_|\_\\ 
  `---`    `-----`   /_//     `-`   `-`  `-` --` 
                     `-`

يرجى إدخال ما تراه::

أرسل هذا في رسالة قصيرة: Study of diffusion barrier properties of ionized metal plasma (IMP) deposited tantalum (Ta) between Cu and SiO2