أرسل هذا في رسالة قصيرة

رقم:

مقدم:

كابتشا:

  ______     ___      ____      ______    _____   
 /_____//   / _ \\   |  _ \\   /_   _//  /  ___|| 
 `____ `   / //\ \\  | |_| ||   -| ||-  | // __   
 /___//   |  ___  || | .  //    _| ||_  | \\_\ || 
 `__ `    |_||  |_|| |_|\_\\   /_____//  \____//  
 /_//     `-`   `-`  `-` --`   `-----`    `---`   
 `-`

يرجى إدخال ما تراه::

أرسل هذا في رسالة قصيرة: Study of diffusion barrier properties of ionized metal plasma (IMP) deposited tantalum (Ta) between Cu and SiO2