APA استشهاد

D., B., S., I., C., A., U., T., & L.D., Y. (2014). Formation of thin DLC films on SiO2/Si substrate using FCVAD technique.

استشهاد بنمط شيكاغو

D., Bootkul, Intarasiri S., Aramwit C., Tippawan U., و Yu L.D. Formation of Thin DLC Films On SiO2/Si Substrate Using FCVAD Technique. 2014.

MLA استشهاد

D., Bootkul, et al. Formation of Thin DLC Films On SiO2/Si Substrate Using FCVAD Technique. 2014.

تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.