Penggunaan Metode Pulsed Laser Deposition (Pld) Untuk Pelapisan Antireflektif Guna Aplikasi Sel Surya

• Main Author: Hani Fitriyatul Khilfiyah
• Format: Theses and Dissertations NonPeerReviewed
• Language: English; English; English; English; English; English; English; English; English; English
• Published: 2020
• Subjects: QC Physics
• Online Access: http://repository.unair.ac.id/103289/1/1.%20HALAMAN%20JUDUL.pdf; http://repository.unair.ac.id/103289/2/2.%20ABSTRAK.pdf; http://repository.unair.ac.id/103289/3/3.%20DAFTAR%20ISI.pdf; http://repository.unair.ac.id/103289/4/4.%20BAB%20I%20PENDAHULUAN.pdf; http://repository.unair.ac.id/103289/5/5.%20BAB%20II%20TINJAUAN%20PUSTAKA.pdf; http://repository.unair.ac.id/103289/6/6.%20BAB%20III%20METODE%20PENELITIAN.pdf; http://repository.unair.ac.id/103289/7/7.%20BAB%20IV%20HASIL%20DAN%20PEMBAHASAN.pdf; http://repository.unair.ac.id/103289/8/8.%20BAB%20V%20KESIMPULAN%20DAN%20SARAN.pdf; http://repository.unair.ac.id/103289/9/9.%20DAFTAR%20PUSTAKA.pdf; http://repository.unair.ac.id/103289/10/10.%20PERNYATAAN%20KESEDIAAN%20PUBLIKASI.pdf; http://repository.unair.ac.id/103289/; http:/www.lib.unair.ac.id
• Institution: Universitas Airlangga

Sel surya merupakan salah satu teknologi yang mampu mengubah energi cahaya menjadi energi listrik. Dalam pembuatan sel surya diperlukan suatu film tipis yang dinamakan lapisan antireflektif. Lapisan ini mampu memperkecil refleksi pada cahaya sehingga memaksimalkan kinerja sel surya. Pembuatan lapisan ini menggunakan teknik sintesis yang disebut dengan Pulsed laser deposition (PLD). PLD merupakan salah satu metode dalam pembuatan film tipis (thin film) yang menggunakan cahaya laser untuk membentuk plasma dan mendeposisikan ke subtrat. Teknik sintesis ini memiliki beberapa faktor yang sangat mempengaruhi antara lain jenis laser, energi laser, waktu deposisi, tekanan chamber, suhu substrat. Jenis laser yang biasa digunakan adalah Nd:YAG dan laser excimer (KrF, XeCl). Laser excimer memiliki stabilitas pulsa yang lebih baik dibandingkan laser Nd:YAG. Suhu substrat mempengaruhi struktur morfologi pada pertumbuhan lapisan tipis pada subtrat. Tekanan yang mencapai ~10-5 Torr mampu membuat lapisan lebih homogen. Dari beberapa pengaruh tersebut dihasilkan refleksi dan transmitansi pada lapisan tipis. Pada material ZnO ketebalan paling optimum adalah sekitar 300-400nm dengan transmitansi diatas 90%. Material yang lain yakni MgO memiliki transmitansi hingga 97%. Sedangkan CuCrO2 dan TiO2 hanya mampu mentramisikan cahaya hingga 70%. Penggunaan lapisan ganda TiO2-SiO2 mampu merefleksikan hingga 14,11%. Material keramik AZOY memiliki transmitansi sebesar 82,7% dan refleksi 10%. Nilai refleksi terendah ada pada penggunaan PLD dengan metode graded index material Si-polycrystaline dan sodalime glass sebesar 2-4% dibandingkan dengan Si tanpa lapisan yang merefleksikan sebesar40%.