PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED
Agen bonding self etch dan total etch telah digunakan secara lu as di dunia kedokteran gigi. Material ini digunakan pada permukaan enamel dan d entin sebelum aplikasi restorasi resin komposit. Debat masih berlangsung hingga s aat ini mengenai teknik manakah yang lebih baik. Untuk memenuhi kebutuh...
Saved in:
Main Author: | |
---|---|
Format: | Theses and Dissertations NonPeerReviewed |
Language: | Indonesian Indonesian |
Published: |
2017
|
Subjects: | |
Online Access: | http://repository.unair.ac.id/54366/1/abstrak.pdf http://repository.unair.ac.id/54366/2/SKRIPSI%20WIET%20SIDHARTA%20021311133002.pdf http://repository.unair.ac.id/54366/ http://lib.unair.ac.id |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
Institution: | Universitas Airlangga |
Language: | Indonesian Indonesian |
id |
id-langga.54366 |
---|---|
record_format |
dspace |
spelling |
id-langga.543662017-03-13T18:13:18Z http://repository.unair.ac.id/54366/ PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED WIET SIDHARTA, 021311133002 R Medicine Agen bonding self etch dan total etch telah digunakan secara lu as di dunia kedokteran gigi. Material ini digunakan pada permukaan enamel dan d entin sebelum aplikasi restorasi resin komposit. Debat masih berlangsung hingga s aat ini mengenai teknik manakah yang lebih baik. Untuk memenuhi kebutuhan do kter gigi, manufaktur dari material dental telah mengembangkan universal bondin g agent, yang dapat digunakan baik secara self etch dan total etch. Teknik self etch telah dilaporkan menyebabkan sensitivitas post operatif yang lebih rendah. Agen b onding universal mengandung monomer fosfat terbaru dan termutakhir yaitu MDP -10, yang memungkinkan proses etching dan priming secara bersamaan untuk tek nik self etch. Monomer ini mengindikasikan adhesi yang lebih baik dari monomer bahan adhesif generasi sebelumnya. Bonding generasi terbaru ini juga dapat digun akan dengan teknik total etch. Teknik total etch memerlukan proses etsa pendahul uan dengan asam fosfat 37 % selama 15 detik, dibilas dengan air lalu dikeringkan. Proses etsa pendahuluan memastikan pembersihan total dari smear layer, yang jug a mengindikasikan peningkatan adhesi restorasi dan substrat. Tujuan: tujuan pene litian ini adalah membandingkan derajat keparahan kebocoran tepi pada restorasi r esin komposit nanofilled dengan universal bonding agent menggunakan teknik tot al etch dan self etch. Metode : Sampel gigi dipreparasi dengan mata bur wheel dia mond dengan kedalaman 1.5 mm, kemudian agen bonding diaplikasikan langsung ke kavitaa (self etch) atau dietsa sebelum aplikasi dari agen bonding. Kemudian, g igi direstorasi dengan komposit nanofilled. Sampel kemudian direndam dalam aku ades steril dan diletakkan dalam inkubator dengan suhu 37 derajat untuk 24 jam, s ampel kemudian dilapisi dengan cat kuku dan kemudian direndam dalam larutan methylene blue 0.5 % untuk 24 jam. Setelah dibersihkan, gigi sampel dipotong de ngan arah bukolingual, sehingga skor dapat diberikan menurut dalamnya kebocora n dilihat dengan stereomikroskop digital. Hasil: Data yang diperoleh dianalisa den gan Mann-Whitney U Test dengant α = 0.05. Hasil analisa mengindikasikan bahw a nilai rata-rata kebocoran tepi dari restorasi resin komposit nanofilled menggunak an agen bonding universal dengan teknik total etch lebih rendah daripada teknik s elf etch dengan p=0.005. Kesimpulan: Agen bonding universal dengan teknik tot al etch memiliki derajat kebocoran tepi lebih rendah dibandingkan teknik self etch pada restorasi komposit nanofilled. 2017-03-14 Thesis NonPeerReviewed text id http://repository.unair.ac.id/54366/1/abstrak.pdf text id http://repository.unair.ac.id/54366/2/SKRIPSI%20WIET%20SIDHARTA%20021311133002.pdf WIET SIDHARTA, 021311133002 (2017) PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED. Skripsi thesis, UNIVERSITAS AIRLANGGA. http://lib.unair.ac.id |
institution |
Universitas Airlangga |
building |
Universitas Airlangga Library |
country |
Indonesia |
collection |
UNAIR Repository |
language |
Indonesian Indonesian |
topic |
R Medicine |
spellingShingle |
R Medicine WIET SIDHARTA, 021311133002 PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED |
description |
Agen bonding self etch dan total etch telah digunakan secara lu
as di dunia kedokteran gigi. Material ini digunakan pada permukaan enamel dan d
entin sebelum aplikasi restorasi resin komposit. Debat masih berlangsung hingga s
aat ini mengenai teknik manakah yang lebih baik. Untuk memenuhi kebutuhan do
kter gigi, manufaktur dari material dental telah mengembangkan universal bondin
g agent, yang dapat digunakan baik secara self etch dan total etch. Teknik self etch
telah dilaporkan menyebabkan sensitivitas post operatif yang lebih rendah. Agen b
onding universal mengandung monomer fosfat terbaru dan termutakhir yaitu MDP
-10, yang memungkinkan proses etching dan priming secara bersamaan untuk tek
nik self etch. Monomer ini mengindikasikan adhesi yang lebih baik dari monomer
bahan adhesif generasi sebelumnya. Bonding generasi terbaru ini juga dapat digun
akan dengan teknik total etch. Teknik total etch memerlukan proses etsa pendahul
uan dengan asam fosfat 37 % selama 15 detik, dibilas dengan air lalu dikeringkan.
Proses etsa pendahuluan memastikan pembersihan total dari smear layer, yang jug
a mengindikasikan peningkatan adhesi restorasi dan substrat. Tujuan: tujuan pene
litian ini adalah membandingkan derajat keparahan kebocoran tepi pada restorasi r
esin komposit nanofilled dengan universal bonding agent menggunakan teknik tot
al etch dan self etch. Metode : Sampel gigi dipreparasi dengan mata bur wheel dia
mond dengan kedalaman 1.5 mm, kemudian agen bonding diaplikasikan langsung
ke kavitaa (self etch) atau dietsa sebelum aplikasi dari agen bonding. Kemudian, g
igi direstorasi dengan komposit nanofilled. Sampel kemudian direndam dalam aku
ades steril dan diletakkan dalam inkubator dengan suhu 37 derajat untuk 24 jam, s
ampel kemudian dilapisi dengan cat kuku dan kemudian direndam dalam larutan
methylene blue 0.5 % untuk 24 jam. Setelah dibersihkan, gigi sampel dipotong de
ngan arah bukolingual, sehingga skor dapat diberikan menurut dalamnya kebocora
n dilihat dengan stereomikroskop digital. Hasil: Data yang diperoleh dianalisa den
gan Mann-Whitney U Test dengant α = 0.05. Hasil analisa mengindikasikan bahw
a nilai rata-rata kebocoran tepi dari restorasi resin komposit nanofilled menggunak
an agen bonding universal dengan teknik total etch lebih rendah daripada teknik s
elf etch dengan p=0.005. Kesimpulan: Agen bonding universal dengan teknik tot
al etch memiliki derajat kebocoran tepi lebih rendah dibandingkan teknik self etch
pada restorasi komposit nanofilled. |
format |
Theses and Dissertations NonPeerReviewed |
author |
WIET SIDHARTA, 021311133002 |
author_facet |
WIET SIDHARTA, 021311133002 |
author_sort |
WIET SIDHARTA, 021311133002 |
title |
PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED |
title_short |
PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED |
title_full |
PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED |
title_fullStr |
PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED |
title_full_unstemmed |
PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED |
title_sort |
perbandingan kebocoran tepi agen bonding universal dengan teknik self etch dan total etch pada restorasi komposit nanofilled |
publishDate |
2017 |
url |
http://repository.unair.ac.id/54366/1/abstrak.pdf http://repository.unair.ac.id/54366/2/SKRIPSI%20WIET%20SIDHARTA%20021311133002.pdf http://repository.unair.ac.id/54366/ http://lib.unair.ac.id |
_version_ |
1681147053393051648 |