PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED

Agen bonding self etch dan total etch telah digunakan secara lu as di dunia kedokteran gigi. Material ini digunakan pada permukaan enamel dan d entin sebelum aplikasi restorasi resin komposit. Debat masih berlangsung hingga s aat ini mengenai teknik manakah yang lebih baik. Untuk memenuhi kebutuh...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Author: WIET SIDHARTA, 021311133002
Format: Theses and Dissertations NonPeerReviewed
Language:Indonesian
Indonesian
Published: 2017
Subjects:
Online Access:http://repository.unair.ac.id/54366/1/abstrak.pdf
http://repository.unair.ac.id/54366/2/SKRIPSI%20WIET%20SIDHARTA%20021311133002.pdf
http://repository.unair.ac.id/54366/
http://lib.unair.ac.id
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Institution: Universitas Airlangga
Language: Indonesian
Indonesian
id id-langga.54366
record_format dspace
spelling id-langga.543662017-03-13T18:13:18Z http://repository.unair.ac.id/54366/ PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED WIET SIDHARTA, 021311133002 R Medicine Agen bonding self etch dan total etch telah digunakan secara lu as di dunia kedokteran gigi. Material ini digunakan pada permukaan enamel dan d entin sebelum aplikasi restorasi resin komposit. Debat masih berlangsung hingga s aat ini mengenai teknik manakah yang lebih baik. Untuk memenuhi kebutuhan do kter gigi, manufaktur dari material dental telah mengembangkan universal bondin g agent, yang dapat digunakan baik secara self etch dan total etch. Teknik self etch telah dilaporkan menyebabkan sensitivitas post operatif yang lebih rendah. Agen b onding universal mengandung monomer fosfat terbaru dan termutakhir yaitu MDP -10, yang memungkinkan proses etching dan priming secara bersamaan untuk tek nik self etch. Monomer ini mengindikasikan adhesi yang lebih baik dari monomer bahan adhesif generasi sebelumnya. Bonding generasi terbaru ini juga dapat digun akan dengan teknik total etch. Teknik total etch memerlukan proses etsa pendahul uan dengan asam fosfat 37 % selama 15 detik, dibilas dengan air lalu dikeringkan. Proses etsa pendahuluan memastikan pembersihan total dari smear layer, yang jug a mengindikasikan peningkatan adhesi restorasi dan substrat. Tujuan: tujuan pene litian ini adalah membandingkan derajat keparahan kebocoran tepi pada restorasi r esin komposit nanofilled dengan universal bonding agent menggunakan teknik tot al etch dan self etch. Metode : Sampel gigi dipreparasi dengan mata bur wheel dia mond dengan kedalaman 1.5 mm, kemudian agen bonding diaplikasikan langsung ke kavitaa (self etch) atau dietsa sebelum aplikasi dari agen bonding. Kemudian, g igi direstorasi dengan komposit nanofilled. Sampel kemudian direndam dalam aku ades steril dan diletakkan dalam inkubator dengan suhu 37 derajat untuk 24 jam, s ampel kemudian dilapisi dengan cat kuku dan kemudian direndam dalam larutan methylene blue 0.5 % untuk 24 jam. Setelah dibersihkan, gigi sampel dipotong de ngan arah bukolingual, sehingga skor dapat diberikan menurut dalamnya kebocora n dilihat dengan stereomikroskop digital. Hasil: Data yang diperoleh dianalisa den gan Mann-Whitney U Test dengant α = 0.05. Hasil analisa mengindikasikan bahw a nilai rata-rata kebocoran tepi dari restorasi resin komposit nanofilled menggunak an agen bonding universal dengan teknik total etch lebih rendah daripada teknik s elf etch dengan p=0.005. Kesimpulan: Agen bonding universal dengan teknik tot al etch memiliki derajat kebocoran tepi lebih rendah dibandingkan teknik self etch pada restorasi komposit nanofilled. 2017-03-14 Thesis NonPeerReviewed text id http://repository.unair.ac.id/54366/1/abstrak.pdf text id http://repository.unair.ac.id/54366/2/SKRIPSI%20WIET%20SIDHARTA%20021311133002.pdf WIET SIDHARTA, 021311133002 (2017) PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED. Skripsi thesis, UNIVERSITAS AIRLANGGA. http://lib.unair.ac.id
institution Universitas Airlangga
building Universitas Airlangga Library
country Indonesia
collection UNAIR Repository
language Indonesian
Indonesian
topic R Medicine
spellingShingle R Medicine
WIET SIDHARTA, 021311133002
PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED
description Agen bonding self etch dan total etch telah digunakan secara lu as di dunia kedokteran gigi. Material ini digunakan pada permukaan enamel dan d entin sebelum aplikasi restorasi resin komposit. Debat masih berlangsung hingga s aat ini mengenai teknik manakah yang lebih baik. Untuk memenuhi kebutuhan do kter gigi, manufaktur dari material dental telah mengembangkan universal bondin g agent, yang dapat digunakan baik secara self etch dan total etch. Teknik self etch telah dilaporkan menyebabkan sensitivitas post operatif yang lebih rendah. Agen b onding universal mengandung monomer fosfat terbaru dan termutakhir yaitu MDP -10, yang memungkinkan proses etching dan priming secara bersamaan untuk tek nik self etch. Monomer ini mengindikasikan adhesi yang lebih baik dari monomer bahan adhesif generasi sebelumnya. Bonding generasi terbaru ini juga dapat digun akan dengan teknik total etch. Teknik total etch memerlukan proses etsa pendahul uan dengan asam fosfat 37 % selama 15 detik, dibilas dengan air lalu dikeringkan. Proses etsa pendahuluan memastikan pembersihan total dari smear layer, yang jug a mengindikasikan peningkatan adhesi restorasi dan substrat. Tujuan: tujuan pene litian ini adalah membandingkan derajat keparahan kebocoran tepi pada restorasi r esin komposit nanofilled dengan universal bonding agent menggunakan teknik tot al etch dan self etch. Metode : Sampel gigi dipreparasi dengan mata bur wheel dia mond dengan kedalaman 1.5 mm, kemudian agen bonding diaplikasikan langsung ke kavitaa (self etch) atau dietsa sebelum aplikasi dari agen bonding. Kemudian, g igi direstorasi dengan komposit nanofilled. Sampel kemudian direndam dalam aku ades steril dan diletakkan dalam inkubator dengan suhu 37 derajat untuk 24 jam, s ampel kemudian dilapisi dengan cat kuku dan kemudian direndam dalam larutan methylene blue 0.5 % untuk 24 jam. Setelah dibersihkan, gigi sampel dipotong de ngan arah bukolingual, sehingga skor dapat diberikan menurut dalamnya kebocora n dilihat dengan stereomikroskop digital. Hasil: Data yang diperoleh dianalisa den gan Mann-Whitney U Test dengant α = 0.05. Hasil analisa mengindikasikan bahw a nilai rata-rata kebocoran tepi dari restorasi resin komposit nanofilled menggunak an agen bonding universal dengan teknik total etch lebih rendah daripada teknik s elf etch dengan p=0.005. Kesimpulan: Agen bonding universal dengan teknik tot al etch memiliki derajat kebocoran tepi lebih rendah dibandingkan teknik self etch pada restorasi komposit nanofilled.
format Theses and Dissertations
NonPeerReviewed
author WIET SIDHARTA, 021311133002
author_facet WIET SIDHARTA, 021311133002
author_sort WIET SIDHARTA, 021311133002
title PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED
title_short PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED
title_full PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED
title_fullStr PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED
title_full_unstemmed PERBANDINGAN KEBOCORAN TEPI AGEN BONDING UNIVERSAL DENGAN TEKNIK SELF ETCH DAN TOTAL ETCH PADA RESTORASI KOMPOSIT NANOFILLED
title_sort perbandingan kebocoran tepi agen bonding universal dengan teknik self etch dan total etch pada restorasi komposit nanofilled
publishDate 2017
url http://repository.unair.ac.id/54366/1/abstrak.pdf
http://repository.unair.ac.id/54366/2/SKRIPSI%20WIET%20SIDHARTA%20021311133002.pdf
http://repository.unair.ac.id/54366/
http://lib.unair.ac.id
_version_ 1681147053393051648