Pengaruh suhu anil dan dosis ion pada hambatan lapis lapisan semikonduktor silikon diimplantasi ion boron dan fosfor dosis tinggi
Saved in:
Main Authors: | , YUDYANTO, , Prof.Dr.Ir. Prayoto, M.Sc |
---|---|
Format: | Theses and Dissertations NonPeerReviewed |
Published: |
[Yogyakarta] : Universitas Gadjah Mada
1995
|
Subjects: | |
Online Access: | https://repository.ugm.ac.id/56200/ http://etd.ugm.ac.id/index.php?mod=penelitian_detail&sub=PenelitianDetail&act=view&typ=html&buku_id=17065 |
Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
Institution: | Universitas Gadjah Mada |
Similar Items
-
Penentuan profil konsentrasi ion dopan pada lapisan semikonduktor silikon diimplantasi dengan ion fosfor tenaga 30 KeV dan 60 KeV
by: , DWIJANANTI, Pratiwi, et al.
Published: (1996) -
Pengaruh dosis ion pada tingkat kekerasan mikro, keausan dan korositas aluminium yang diimplantasi dengan ion argon
by: , TOIFUR, Moh, et al.
Published: (1995) -
Pengaruh dosis ion, tenaga, dan suhu sepuh-lindap terhadap resistans jenis dan magnetoresistans pada perak yang diimplantasi ion besi
by: , ISTIYONO, Edi, et al.
Published: (1998) -
PENGARUH DOSIS PENEMBAKAN LASERPUNKTUR
SEMIKONDUKTOR TERHADAP KONVERSI PAKAN
PADA
AYAM BROILER
by: MOH. MUTOYIB, 061211132002
Published: (2016) -
PENGARUH VARIASI TEMPERATUR TERHADAP KETAHANAN LELAH BAJA KARBON YANG DIIMPLANTASI ION NITROGEN
by: , Mudjijana, Tjipto Suyitno dan I Gusti Ketut Puja
Published: (2000)