Electrical Properties of Nb-Doped TiO2 Thin Films Deposited by Co-sputtering Process

Electrical Properties of Nb-Doped TiO2 Thin Films Deposited by Co-sputtering Process

tr. 44-50

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Hoang, Ngoc Lam Huong, Nguyen, Minh Hieu, Nguyen, Thi Tien, Nguyen, Tran Thuat, Nguyen, Hoang Luong
التنسيق: مقال
اللغة:other
منشور في: ĐHQGHN 2017
الموضوعات:
Electrical Properties
Nb-Doped TiO2
transparent conducting
Co-sputtering Process
الوصول للمادة أونلاين:http://repository.vnu.edu.vn/handle/VNU_123/60544
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة

مواد مشابهة