Broad-energy oxygen ion implantation controlled magnetization dynamics in CoFeTaZr

In this paper, a novel pulsed broad energy spectrum ion-implantation technique, using the dense plasma focus device (DPF), for uniform oxygen-ion doping along the thickness of a ~250 nm thick magnetic CoFeTaZr layer is investigated. A new operational regime of the dense plasma focus – the off-focus...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Vas, Joseph Vimal, Medwal, Rohit, Chaudhuri, Ushnish, Mishra, Mayank, Chaurasiya, Avinash, Mahendiran, Ramanathan, Piramanayagam, S. N., Rawat, Rajdeep Singh, Lee, Paul Choon Keat
مؤلفون آخرون: School of Physical and Mathematical Sciences
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2023
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/167879
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University
اللغة: English