استشهادات التسجيلة

APA استشهاد

Koo, C. K., & Yuan, L. X. (2008). Application of phase shift masking to sub-0.13 micron lithography.

استشهاد بنمط شيكاغو

Koo, Chee Kiong., و Larry X.-C Yuan. Application of Phase Shift Masking to Sub-0.13 Micron Lithography. 2008.

MLA استشهاد

Koo, Chee Kiong., و Larry X.-C Yuan. Application of Phase Shift Masking to Sub-0.13 Micron Lithography. 2008.

تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.