A study of the electronic properties of III-V compound semiconductor integrated with silicon

This thesis presents systematic studies on monolithic heteroepitaxial integration of III-V compound semiconductor on Si substrate employing the graded Si1-xGex buffer layer. One of the essential growth procedures for antiphase boundary free GaAs/Ge growth is the pre-growth high-temperature in-situ a...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Chen, Kah Pin
مؤلفون آخرون: Yoon Soon Fatt
التنسيق: Theses and Dissertations
اللغة:English
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://hdl.handle.net/10356/60691
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University
اللغة: English