A study of the electronic properties of III-V compound semiconductor integrated with silicon
This thesis presents systematic studies on monolithic heteroepitaxial integration of III-V compound semiconductor on Si substrate employing the graded Si1-xGex buffer layer. One of the essential growth procedures for antiphase boundary free GaAs/Ge growth is the pre-growth high-temperature in-situ a...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2014
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/60691 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |