Growth and characterization of III-V quantum dots on SI-based substrate

This thesis presents a systematic study of InAs quantum dot (QD) growth on Sibased substrates. Two Si-based platforms were studied, namely the graded Si1-xGex/Si substrate which has a high threading dislocation density (~106cm-2), and the germaniumon- insulator (GeOI) platform which has a lower thr...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Leong, Yu Yan
مؤلفون آخرون: Eugene A Fitzgerald
التنسيق: Theses and Dissertations
اللغة:English
منشور في: 2014
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/61068
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!