Chemical vapor deposition growth and characterization of two-dimensional hexagonal boron nitride

Atomically thin hexagonal boron nitride (h-BN) film is a highly attractive dielectric and a crucial material for next-generation high performance two-dimensional (2D) heterostructure devices. In this thesis, controllable growth of 2D h-BN films on various substrates using chemical vapor deposition (...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Tay, Roland Yingjie
مؤلفون آخرون: Teo Hang Tong Edwin
التنسيق: Theses and Dissertations
اللغة:English
منشور في: 2016
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://hdl.handle.net/10356/69026
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University
اللغة: English