Rapid defect detections of bonded wafer using near infrared polariscope
In modern field of microelectronics and MEMS, wafer bonding has emerged as an important processing step in wide range of manufacturing applications. During the manufacturing process, even in the modern clean room, small defects result from trapped particles and gas bubbles exist at bonded interface....
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Conference or Workshop Item |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2017
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/80598 http://hdl.handle.net/10220/42173 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
| المؤسسة: | Nanyang Technological University |
| اللغة: | English |