أرسل هذا في رسالة قصيرة

أرسل هذا في رسالة قصيرة: Digital etch technique for forming ultra-scaled germanium-tin (Ge 1-x Sn x) fin structure

رقم:

مقدم:

كابتشا:

  _  __     ___      ______   __   __    ______  
 | |/ //   / _ \\   /_   _//  \ \\/ //  /_   _// 
 | ' //   / //\ \\  `-| |,-    \ ` //   `-| |,-  
 | . \\  |  ___  ||   | ||      | ||      | ||   
 |_|\_\\ |_||  |_||   |_||      |_||      |_||   
 `-` --` `-`   `-`    `-`'      `-`'      `-`'

يرجى إدخال ما تراه::