Band gap tuning by a Ge interlayer in quantum well intermixing

Workshop on High Performance Electron Devices for Microwave and Optoelectronic Applications, EDMO

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Teng, J.H., Chua, S.J., Li, G., Saher Helmy, A., Marsh, J.H.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL ENGINEERING
التنسيق: Conference or Workshop Item
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/81382
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore