Ion implantation challenges for patterned media at areal densities over 5 tbpsi

• المؤلفون الرئيسيون: Kundu, S., Gaur, N., Piramanayagam, S.N., Maurer, S.L., Yang, H., Bhatia, C.S.
• مؤلفون آخرون: ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الموضوعات: Bit patterned media (BPM); Ion implantation; Lateral straggle; Perpendicular magnetic recording
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/82585
• المؤسسة: National University of Singapore

10.1109/TMAG.2013.2285938