Influence of oxygen pressure on the ferroelectric properties of BiFeO 3 thin films on LaNiO3/Si substrates via laser ablation
10.1007/s00339-010-5918-3
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格式: | Article |
出版: |
2014
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在線閱讀: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/85319 |
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機構: | National University of Singapore |
總結: | 10.1007/s00339-010-5918-3 |
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