Influence of oxygen pressure on the ferroelectric properties of BiFeO 3 thin films on LaNiO3/Si substrates via laser ablation

10.1007/s00339-010-5918-3

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Yan, F., Zhu, T.J., Lai, M.O., Lu, L.
مؤلفون آخرون: MECHANICAL ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/85319
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!