Development and application of cathodic vacuum arc plasma for nanostructured and nanocomposite film deposition

A cathodic vacuum arc plasma (CVAP) system was constructed at Chiang Mai University to be used for the deposition of nanostructured and nanocomposite thin films. Various CVAP sources were developed, such as with a single or dual-rod cathode. A range of features were implemented including "trigg...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: M. Medhisuwakul, N. Pasaja, S. Sansongsiri, J. Kuhakan, S. Intarasiri, L. D. Yu
التنسيق: دورية
منشور في: 2018
الوصول للمادة أونلاين:https://www.scopus.com/inward/record.uri?partnerID=HzOxMe3b&scp=84880569881&origin=inward
http://cmuir.cmu.ac.th/jspui/handle/6653943832/47710
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!