Chế tạo màng mỏng Si3N4, SiO2 và màng treo Si3N4 bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma

• Main Author: Phạm, Thị Hồng
• Other Authors: Nguyễn, Việt Tuyên
• Format: Theses
• Language: Vietnamese
• Published: 2020
• Subjects: Vật lý chất rắn ; Chế tạo màng mỏng; 530.41
• Online Access: http://repository.vnu.edu.vn/handle/VNU_123/69669
• Institution: Vietnam National University, Hanoi

Giới thiệu cấu trúc, tính chất và ứng dụng của màng mỏng Si3N4 và SiO2 cũng như màng treo Si3N4. Trình bày một số phƣơng pháp chế tạo màng mỏng và màng treo đang đƣợc nghiên cứu. Thực nghiệm và các phương pháp nghiên cứu. Giới thiệu tổng quan về thiết bị sử dụng và trình bày quá trình chế tạo màng mỏng Si3N4 và SiO2, màng treo Si3N4 theo phƣơng pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma. Trình bày các phương pháp nghiên cứu để xác định tính chất hóa học, tính chất quang, tính chất cơ học và tính chất bề mặt của màng mỏng và màng treo. trình bày các kết quả thu được về màng mỏng như :điều kiện lắng đọng và ăn mòn khô của màng mỏng Si3N4, SiO2. Dựa vào kết quảnày, màng treo Si3N4 đựợc chế tạo thành công với các kích thƣớc khác nhau trên đếsilic. Từ các kết quả đo của màng treo, ta thấy đƣợc sự sai hỏng trong cấu trúc của vật liệu Si3N4 vô định hình.