Low voltage CMOS operational amplifier design towards maximum CMR
For the past few decades, there has been a ceaseless drive to reduce the minimum feature size of a MOS transistor. Reduced silicon area and, hence, lowered cost is a major motivational factor for such a trend. However, reducing transistor dimensions would also mean that the gate thickness is similar...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2008
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/13198 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |