Two-photon-assisted polymerization and reduction : emerging formulations and applications
Two-photon lithography (TPL) is an emerging approach to fabricate complex multifunctional micro/nanostructures. This is because TPL can easily develop various 2D and 3D structures on a variety of surfaces, and there has been a rapidly expanding pool of processable photoresists to create different ma...
محفوظ في:
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , , , , |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | مقال |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2020
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/143426 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|