Formation of germanium (Ge) – based waveguides for infrared application
Germanium-tin (Ge0.9Sn0.1) alloy is one of the complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) compatible materials in group-IV of the periodic table. Due to the large lattice mismatch between GeSn and Silicon (Si) substrate, the defects will generate within the GeSn layer. Currently, thin GeSn acts...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | Final Year Project |
اللغة: | English |
منشور في: |
Nanyang Technological University
2021
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/150361 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |