Effect of titanium doping on conductivity, density of states and conduction mechanism in ZnO thin film

High quality, ~ 120 nm thin ZnO and Ti-doped ZnO (TZO) films were deposited on silicon substrates using magnetron co-sputtering technique. Surface roughness of the films was ~ 2 nm. Ti incorporation effect on the structure, morphology, conductivity, density of states (DOS) and conduction mechanism w...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Jamil, Arifa, Sajid Fareed, Tiwari, Naveen, Li, Chuanbo, Cheng, Buwen, Xu, Xiulai, Muhammad Aftab Rafiq
مؤلفون آخرون: School of Materials Science and Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2021
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/151629
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University
اللغة: English