Effect of titanium doping on conductivity, density of states and conduction mechanism in ZnO thin film
High quality, ~ 120 nm thin ZnO and Ti-doped ZnO (TZO) films were deposited on silicon substrates using magnetron co-sputtering technique. Surface roughness of the films was ~ 2 nm. Ti incorporation effect on the structure, morphology, conductivity, density of states (DOS) and conduction mechanism w...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
2021
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/151629 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |