Characterization of thin films by filtered cathodic vacuum arc technology

Nanocomposite amorphous carbon (a-C:Me) films including a-C:Ni,a-C:Co,a-C:Ti,a-C:W,a-C:Fe,a-C:Al,anda-C:Si films were deposited using metal-carbon composite target by filtered cathodic vacuum arc (FCVA) technique. Atomic force microscopy(AFM), Raman, and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) were u...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Lau, Daniel Shu Ping, Yu, Siu Fung, Tay, Beng Kang
مؤلفون آخرون: School of Electrical and Electronic Engineering
التنسيق: Research Report
منشور في: 2008
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://hdl.handle.net/10356/2916
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University