Rare earth oxide for nanoelectronics
This project primarily focus is on investigating whether the introduction of a passivation layer would allow for the formation of a more uniform coating on the Si substrate surface. The thin films are used in various devices such as metal-oxide-semiconductor (CMOS) transistors. The scaling down of...
محفوظ في:
| المؤلف الرئيسي: | |
|---|---|
| مؤلفون آخرون: | |
| التنسيق: | Final Year Project |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
2010
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/36178 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|