Development of highly photosensitive low loss inorganic sol-gel films for direct ultraviolet-imprinting of planar waveguides

Highly photosensitive sol-gel derived inorganic 0.2GeO2:0.8SiO2 (germanosilicate) films have been developed to simplify the fabrication of photonic devices using a single step direct UV-imprinting (DUI) technique. The KrF excimer laser (248 nm) light induced refractive index change (?n) of germanosi...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Rajni
مؤلفون آخرون: Kantisara Pita
التنسيق: Theses and Dissertations
منشور في: 2008
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/4113
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University