Nanometric material removal using electrokinetic phenomenon

Material removal at the sub-micron level has been a topic of interest in the past few years, particularly with respect to the fabrication of miniaturized devices. While numerous techniques have been developed and refined from their larger meso-scale counterparts (e.g. polishing), most have inherent...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Leo, Cheng Seng
مؤلفون آخرون: Yang Chun, Charles
التنسيق: Theses and Dissertations
اللغة:English
منشور في: 2012
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/50630
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University
اللغة: English