Chemical vapor deposition growth and characterization of two-dimensional hexagonal boron nitride
Atomically thin hexagonal boron nitride (h-BN) film is a highly attractive dielectric and a crucial material for next-generation high performance two-dimensional (2D) heterostructure devices. In this thesis, controllable growth of 2D h-BN films on various substrates using chemical vapor deposition (...
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | Theses and Dissertations |
اللغة: | English |
منشور في: |
2016
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://hdl.handle.net/10356/69026 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |
كن أول من يترك تعليقا!