Microstructure array on Si and SiOx generated by micro-contact printing, wet chemical etching and reactive ion etching

A method, combining micro-contact printing (μCP), wet chemical etching and reactive ion etching (RIE), is reported to fabricate microstructures on Si and SiOx. Positive and negative structures were generated based on different stamps used for μCP. The reproducibility of the obtained microstructures...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Amro, Nabil A., Zhang, Hua, Disawal, Sandeep, Elghanian, Robert, Shile, Roger, Fragala, Joseph
مؤلفون آخرون: School of Materials Science & Engineering
التنسيق: مقال
اللغة:English
منشور في: 2013
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://hdl.handle.net/10356/97512
http://hdl.handle.net/10220/10516
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: Nanyang Technological University
اللغة: English