Microstructure array on Si and SiOx generated by micro-contact printing, wet chemical etching and reactive ion etching
A method, combining micro-contact printing (μCP), wet chemical etching and reactive ion etching (RIE), is reported to fabricate microstructures on Si and SiOx. Positive and negative structures were generated based on different stamps used for μCP. The reproducibility of the obtained microstructures...
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | , , , , , |
---|---|
مؤلفون آخرون: | |
التنسيق: | مقال |
اللغة: | English |
منشور في: |
2013
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | https://hdl.handle.net/10356/97512 http://hdl.handle.net/10220/10516 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
المؤسسة: | Nanyang Technological University |
اللغة: | English |