Stoichiometric and structural alterations in GaN thin films during annealling
10.1007/s00339-003-2102-z
محفوظ في:
المؤلفون الرئيسيون: | Rana, M.A., Osipowicz, T., Choi, H.W., Breese, M.B.H., Watt, F., Chua, S.J. |
---|---|
مؤلفون آخرون: | ELECTRICAL & COMPUTER ENGINEERING |
التنسيق: | مقال |
منشور في: |
2014
|
الوصول للمادة أونلاين: | http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/57521 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
A study of the decomposition of GaN during annealing over a wide range of temperatures
بواسطة: Rana, M.A., وآخرون
منشور في: (2014) -
A study of the material loss and other processes involved during annealing of GaN at growth temperatures
بواسطة: Rana, M.A., وآخرون
منشور في: (2014) -
Surface analysis of GaN decomposition
بواسطة: Choi, H.W., وآخرون
منشور في: (2014) -
Channeling contrast microscopy of GaN and InGaN thin films
بواسطة: Osipowicz, T., وآخرون
منشور في: (2014) -
Rutherford backscattering analysis of GaN decomposition
بواسطة: Choi, H.W., وآخرون
منشور في: (2014)