Hot-carrier reliability of non-degenerately doped tungsten polycide gate buried-channel p-MOSFETs

Solid-State Electronics

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Lou, C.L., Chim, W.K., Chan, D.S.H., Pan, Y.
مؤلفون آخرون: ELECTRICAL ENGINEERING
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/62291
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!