BEEM studies on metal high K-dielectric HfO2 interfaces

10.1088/1742-6596/61/1/266

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلفون الرئيسيون: Zheng, Y., Troadec, C., Wee, A.T.S., Pey, K.L., O'Shea, S.J., Chandrasekhar, N.
مؤلفون آخرون: PHYSICS
التنسيق: مقال
منشور في: 2014
الوصول للمادة أونلاين:http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/95860
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
المؤسسة: National University of Singapore