Evidence for the interfacial reaction between Ni adatoms and H-Si(001) surface

• المؤلفون الرئيسيون: Zhang, Z., Pan, J.S., Chai, J.W., Zhang, J., Tok, E.S.
• مؤلفون آخرون: PHYSICS
• التنسيق: مقال
• منشور في: 2014
• الموضوعات: Interfacial reaction; Nickel silicide; Silicon; X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)
• الوصول للمادة أونلاين: http://scholarbank.nus.edu.sg/handle/10635/96529

10.1016/j.susc.2011.06.023